论文研究通过侧墙及有源区刻蚀工艺优化提升55nm器件工艺窗口的研究 .pdf 上传者：wsrwsrriri 2019-09-14 01:40:29上传 其他文档文件 717KB 热度 32次 通过侧墙及有源区刻蚀工艺优化提升55nm器件工艺窗口的研究，顾林，，55纳米低功耗平台（55LP）的器件工艺窗口不足是长期存在的一个问题，主要表现为两个方面：1.器件速度偏慢导致的晶圆边缘（W/E）Mbist� 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 收藏 腾讯 微博 用户评论 发表评论 wsrwsrriri 资源：19545 粉丝：2 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
