论文研究 通过微形貌调制改善55nm铜互连电迁移可靠性 .pdf 上传者：u735696828 2020-07-19 18:55:45上传 PDF文件 784.21KB 热度 11次 通过微形貌调制改善55nm铜互连电迁移可靠性，林聪，徐莹，随着芯片集成度的越来越高，金属互连线承受的电流密度越来越高，电迁移引起的集成电路可靠性问题日趋凸显。本文介绍了电迁移的基 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 收藏 腾讯 微博 用户评论 发表评论 u735696828 资源：19496 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
