1. 首页
  2. 编程语言
  3. 其他
  4. 论文研究55nm APF 接触孔刻蚀特征尺寸缩减遇到的挑战 .pdf

论文研究55nm APF 接触孔刻蚀特征尺寸缩减遇到的挑战 .pdf

上传者: 2020-04-21 16:03:34上传 PDF文件 908.16KB 热度 23次
55nmAPF接触孔刻蚀特征尺寸缩减遇到的挑战,王庆,程秀兰,半导体制造进入65nm及以下节点之后,接触孔刻蚀工艺中通常引入APF作为硬掩模(HardMask)进行接触孔刻蚀来解决单层光阻刻蚀中孔壁不��
用户评论
码姐姐匿名网友 2019-05-14 17:40:11

。。。这和我隔壁3积分的资源一样啊 在看日期那个2010年的 老哥你这样复制黏贴 还涨价 不厚道吧