论文研究55nm APF 接触孔刻蚀特征尺寸缩减遇到的挑战 .pdf 上传者:CSDN阿坤 2020-04-21 16:03:34上传 PDF文件 908.16KB 热度 23次 55nmAPF接触孔刻蚀特征尺寸缩减遇到的挑战,王庆,程秀兰,半导体制造进入65nm及以下节点之后,接触孔刻蚀工艺中通常引入APF作为硬掩模(HardMask)进行接触孔刻蚀来解决单层光阻刻蚀中孔壁不�� 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 收藏 腾讯 微博 用户评论 码姐姐匿名网友 2019-05-14 17:40:11 。。。这和我隔壁3积分的资源一样啊 在看日期那个2010年的 老哥你这样复制黏贴 还涨价 不厚道吧 发表评论 CSDN阿坤 资源:19615 粉丝:1 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台,下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容!联系邮箱:server@dude6.com
。。。这和我隔壁3积分的资源一样啊 在看日期那个2010年的 老哥你这样复制黏贴 还涨价 不厚道吧