论文研究提高闪存浮栅绝缘氧化层质量的制程改善方法研究 .pdf
提高闪存浮栅绝缘氧化层质量的制程改善方法研究，张琳，，自对准分栅闪存具有较高的编程效率（ProgramEfficiency）及较低的擦除电压(EraseVoltage)，是目前闪存领域的研究重点。浮栅(FloatingGate)绝缘
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