论文研究提高闪存浮栅绝缘氧化层质量的制程改善方法研究 .pdf 上传者：u735696828 2019-09-05 01:49:56上传 PDF文件 536.6KB 热度 29次 提高闪存浮栅绝缘氧化层质量的制程改善方法研究，张琳，，自对准分栅闪存具有较高的编程效率（ProgramEfficiency）及较低的擦除电压(EraseVoltage)，是目前闪存领域的研究重点。浮栅(FloatingGate)绝缘 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 立即下载 用户评论 发表评论 u735696828 资源：19496 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
