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论文研究 浅沟道光反射造成栅氧化层腐蚀问题分析与措施 .pdf

上传者: 2020-07-20 23:35:17上传 PDF文件 292.24KB 热度 19次
浅沟道光反射造成栅氧化层腐蚀问题分析与措施,沈旭昭,何卫锋,本文介绍了在现代CMOS器件制造工艺中,对于两种不同工作电压的器件有着各自不同厚度的栅极氧化层(Gate Oxide),在制造工艺上就需要一��
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