论文研究 浅沟道光反射造成栅氧化层腐蚀问题分析与措施 .pdf 上传者：houguof 2020-07-20 23:35:17上传 PDF文件 292.24KB 热度 33次 浅沟道光反射造成栅氧化层腐蚀问题分析与措施，沈旭昭，何卫锋，本文介绍了在现代CMOS器件制造工艺中，对于两种不同工作电压的器件有着各自不同厚度的栅极氧化层(Gate Oxide)，在制造工艺上就需要一�� 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
