论文研究氮离子注入对栅氧化层击穿的影响 .pdf 上传者：qq349925728 2020-03-02 08:24:24上传 PDF文件 399.91KB 热度 40次 氮离子注入对栅氧化层击穿的影响，范呈丰，荣国光，本文介绍了氮植入对超薄栅氧化物[1],[2]的时间相关介质击穿（TDDB）的底层机制研究。据发现，氮植入可以提高TDDB对NMOS的可靠性，同时�� 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论 qq349925728 资源：19471 粉丝：3 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
