论文研究分栅型闪存中浮栅氮化物硬掩膜层蚀刻工艺的优化 .pdf 上传者：houguof 2019-09-24 08:50:52上传 PDF文件 478.63KB 热度 45次 分栅型闪存中浮栅氮化物硬掩膜层蚀刻工艺的优化，厉心宇，，本文介绍了闪存单元的结构，编程，读取，擦除操作的原理。阐述了浮栅单元通过F-N电子隧穿和沟道热电子注入来进行擦除和编程的工�� 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
