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论文研究分栅型闪存中浮栅氮化物硬掩膜层蚀刻工艺的优化 .pdf

上传者: 2019-09-24 08:50:52上传 PDF文件 478.63KB 热度 24次
分栅型闪存中浮栅氮化物硬掩膜层蚀刻工艺的优化,厉心宇,,本文介绍了闪存单元的结构,编程,读取,擦除操作的原理。阐述了浮栅单元通过F-N电子隧穿和沟道热电子注入来进行擦除和编程的工��
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