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论文研究氢气氛围下退火对氧化镓薄膜性质的影响 .pdf

上传者: 2020-05-15 18:31:40上传 PDF文件 476.25KB 热度 27次
氢气氛围下退火对氧化镓薄膜性质的影响,牛成军,夏晓川,采用MOCVD制备了ε-Ga2O3薄膜样品,利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、紫外可见分光光度计和半导体特性分析仪等表征手段�
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