溅射和退火温度对磁控溅射法生长的ZnO薄膜性质的影响

Name: 溅射和退火温度对磁控溅射法生长的ZnO薄膜性质的影响
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Author: baidu_60167

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溅射和退火温度对磁控溅射法生长的ZnO薄膜性质的影响，王彬，赵子文，利用磁控溅射法在Al203(001)衬底上生长ZnO薄膜，生长温度分别为500℃、550℃、600℃和650℃。生长后进行了800℃退火和1000℃退火处理。利用X

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