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论文研究射频反应磁控溅射制备VOx薄膜 .pdf

上传者: 2019-09-20 07:05:25上传 PDF文件 1.07MB 热度 42次
射频反应磁控溅射制备VOx薄膜,李建峰,吴志明,本文采用射频反应溅射法制备了VOx薄膜,重点研究了氧分压对薄膜电学性能的影响,在低真空中330℃低温退火得到了高性能的VOx薄膜,制
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