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直流反应磁控溅射氮化钛薄膜电极的工艺研究

上传者: 2020-04-23 18:33:10上传 PDF文件 652.36KB 热度 27次
直流反应磁控溅射氮化钛薄膜电极的工艺研究,王男,周大雨,采用直流磁控溅射技术在Si(100)基片上制备了不同溅射电流以及不同氩氮比下的氮化钛(TiN)纳米薄膜电极。通过表面台阶测试仪﹑四�
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