论文研究反应磁控溅射制备钇掺杂氧化铪薄膜及性能的研究 .pdf 上传者：houguof 2020-07-16 06:34:10上传 PDF文件 637.22KB 热度 56次 反应磁控溅射制备钇掺杂氧化铪薄膜及性能的研究，戈占伟，张昱，本文研究了在低阻硅衬底上，采用纯铪与纯钇金属靶，氧气为反应气，采用新颖的反应磁控溅射法制备了钇掺杂氧化铪薄膜。并对制得的 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
