射频反应溅射制备AlN薄膜的研究1

Name: 射频反应溅射制备AlN薄膜的研究1
Rating: 4.5 (64 reviews)
Author: lishanplum

上传者：lishanplum 2019-09-09 10:36:35上传 PDF文件 297.24KB 热度 64次

射频反应溅射制备AlN薄膜的研究,希望对大家有用

下载地址

用户评论

更多下载

下载地址

立即下载

用户评论

射频反应溅射制备AlN薄膜的研究1

射频反应溅射制备AlN薄膜的研究,希望对大家有用

大小：0B | 2019-09-09 10:36:35
射频反应溅射制备AlN薄膜的研究

射频反应溅射制备AlN薄膜的研究,希望对大家有用

大小：0B | 2019-09-07 00:04:54
射频磁控反应溅射氮氧化硅薄膜的研究

利用SiOxNy薄膜光学常数随化学计量比连续变化的特性,给出了制备折射率连续可调的SiOxNy薄膜的...

大小：906KB | 2021-02-27 22:17:10
论文研究射频反应磁控溅射制备VOx薄膜.pdf

射频反应磁控溅射制备VOx薄膜，李建峰，吴志明，本文采用射频反应溅射法制备了VOx薄膜,重点研究了氧...

大小：0B | 2019-09-20 07:05:25
反应溅射TiO

报道了反应溅射沉积TiO2薄膜,得到TiO2薄膜的特性如沉积速率、透射率、导电性能、吸收系数等与反应...

大小：831KB | 2021-05-05 05:05:54
射频磁控反应溅射制备Al_2O_3薄膜过程中迟滞效应的消除

射频磁控反应溅射制备Al_2O_3薄膜过程中迟滞效应的消除，赵以德，，反应磁控溅射过程中的迟滞效应是...

大小：434KB | 2020-07-19 19:12:08
反应溅射制备NiOx薄膜及其电致变色响应时间性能研究

在Ar和O2气氛下采用直流反应溅射制备了NiOx薄膜,利用X射线衍射(XRD)和X射线光电子能谱技术...

大小：2.18MB | 2021-03-02 01:13:45
衬底温度对反应溅射ZnO Al导电薄膜性能的影响

摘要:衬底温度在反应溅射制备ZnO:Al薄膜过程中是一个重要的工艺参数,直接决定这薄膜的性能。本文用...

大小：176KB | 2021-02-23 19:12:33
磁控溅射制备TaN薄膜研究

磁控溅射制备TaN薄膜研究，康杰，，使用磁控反应溅射制备TaN薄膜，研究不同氮分压，工作气压，溅射功...

大小：187KB | 2020-07-19 01:36:07
直流反应磁控溅射制备掺铟ZnO透明导电薄膜的研究

本文介绍了掺铟ZnO透明导电膜的制备工艺.并应用半导体物理理论分析了薄膜的导电机理,用Drude理论...

大小：5.05MB | 2021-02-21 00:58:07
射频磁控溅射生长C轴择优取向AlN压电薄膜

采用射频磁控反应溅射工艺,在Si(400)衬底上制备了高c轴取向的AlN薄膜。用X射线衍射仪(XRD...

大小：628KB | 2021-02-22 21:50:20
室温下溅射功率对射频溅射制备ZnO薄膜性能的影响

室温下溅射功率对射频溅射制备ZnO薄膜性能的影响

大小：128KB | 2021-04-21 04:51:04
不同氧分压下直流反应溅射ZnO薄膜的结构和光学特性

在室温,不同氧分压条件下,采用Zn靶直流反应溅射在石英衬底上制备了具有纤锌矿结构(002)择优取向的...

大小：701KB | 2021-02-23 19:12:39
反应磁控溅射制备SiO

梳状滤光片是一种特殊的非均匀光学薄膜器件, 其膜层折射率渐变分布结构使它与常规均匀光学薄膜相比具有更...

大小：1.32MB | 2021-04-03 06:16:05
论文研究反应磁控溅射制备钇掺杂氧化铪薄膜及性能的研究.pdf

反应磁控溅射制备钇掺杂氧化铪薄膜及性能的研究，戈占伟，张昱，本文研究了在低阻硅衬底上，采用纯铪与纯钇...

大小：637KB | 2020-07-16 06:34:10
射频磁控溅射制备氮化锌薄膜的结构和光学性质

射频磁控溅射制备氮化锌薄膜的结构和光学性质

大小：178KB | 2021-04-17 13:50:49