CdCl2退火热处理对磁控溅射CdTe薄膜性能的影响 上传者：gudaojiayuan 2020-05-25 19:10:26上传 PDF文件 725.25KB 热度 22次 CdCl2退火热处理对磁控溅射CdTe薄膜性能的影响，霍晓旭，莫晓亮，利用射频磁控溅射方法，以SnO2:F(FTO)为基底制备CdTe薄膜。然后对制备的CdTe薄膜进行湿法CdCl2热处理，退火温度在340℃至420℃的范围内，� 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 收藏 腾讯 微博 用户评论 发表评论 gudaojiayuan 资源：432 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
