1. 首页
  2. 移动开发
  3. 其他
  4. 沉积气氛对直流磁控溅射制备的Mg掺杂CuCrO2薄膜结构和性能的影响

沉积气氛对直流磁控溅射制备的Mg掺杂CuCrO2薄膜结构和性能的影响

上传者: 2021-04-04 07:28:46上传 PDF文件 856.64KB 热度 13次
沉积气氛对直流磁控溅射制备的Mg掺杂CuCrO2薄膜结构和性能的影响
用户评论