溅射气压对单靶磁控溅射制备的Cu2ZnSnS4薄膜结构及性能的影响 上传者：水中花wk 2020-04-20 09:07:29上传 PDF文件 890.8KB 热度 73次 溅射气压对单靶磁控溅射制备的Cu2ZnSnS4薄膜结构及性能的影响，文斌，刘超前，本文基于脉冲直流磁控溅射技术，利用自制单一Cu2ZnSnS4(CZTS)陶瓷靶材于室温下在普通纳钙玻璃上沉积了CZTS薄膜，主要研究了沉积过程中� 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
