1. 首页
  2. 编程语言
  3. 其他
  4. 溅射气压对单靶磁控溅射制备的Cu2ZnSnS4薄膜结构及性能的影响

溅射气压对单靶磁控溅射制备的Cu2ZnSnS4薄膜结构及性能的影响

上传者: 2020-04-20 09:07:29上传 PDF文件 890.8KB 热度 36次
溅射气压对单靶磁控溅射制备的Cu2ZnSnS4薄膜结构及性能的影响,文斌,刘超前,本文基于脉冲直流磁控溅射技术,利用自制单一Cu2ZnSnS4(CZTS)陶瓷靶材于室温下在普通纳钙玻璃上沉积了CZTS薄膜,主要研究了沉积过程中�
用户评论