论文研究55nm APF 接触孔刻蚀特征尺寸缩减遇到的挑战 .pdf 上传者：CSDN阿坤 2020-04-21 16:03:34上传 PDF文件 908.16KB 热度 30次 55nmAPF接触孔刻蚀特征尺寸缩减遇到的挑战，王庆，程秀兰，半导体制造进入65nm及以下节点之后，接触孔刻蚀工艺中通常引入APF作为硬掩模（HardMask）进行接触孔刻蚀来解决单层光阻刻蚀中孔壁不�� 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论 CSDN阿坤 资源：19615 粉丝：1 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
