粉末靶材射频磁控溅射法制备BaSn0.15Ti0.85O3薄膜及其性能研究 上传者：生如夏莲 2020-04-19 21:44:57上传 PDF文件 371.48KB 热度 20次 粉末靶材射频磁控溅射法制备BaSn0.15Ti0.85O3薄膜及其性能研究，肖渊渊，黄玉音，采用粉末靶材射频磁控溅射技术在Pt/SiO2/Si基片上制备了厚度为300nm的BaSn0.15Ti0.85O3薄膜，薄膜的沉积速度达到40nm/min，比采用传统陶瓷靶� 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论 生如夏莲 资源：450 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
