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磁控溅射方法制备In2O3透明薄膜晶体管

上传者: 2020-07-20 06:17:24上传 PDF文件 315.81KB 热度 27次
磁控溅射方法制备In2O3透明薄膜晶体管,张莹莹,王雄,采用磁控溅射方法在玻璃衬底上生长了In2O3晶体薄膜。该薄膜具有(111)晶面择优取向,晶粒尺寸达到33 nm。利用光刻工艺制作了以In2O3晶
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