磁控溅射法制备的高反Ag

研究了磁控溅射制备的Ag5In5Te47Sb33相变薄膜的光谱及短波长静态记录性能。研究结果表明,晶态薄膜反射率较高,并在600~900nm波长范围内,晶态与非晶态的反射率和折射率相差很大。在CD-E系统的工作波长780nm处,晶态反射率高达50%,光学常数为5.34-1.0i;非晶态反射率为23%,光学常数为2.5-1.03i。从这一角度讲,Ag5In5Te47Sb33相变薄膜适于做CD-E系统的记录介质。另外,采用波长为514.4nm的短波长光学静态记录测试仪对Ag5In5Te47Sb33薄膜的记录性能进行了测试,结果表明,这种薄膜短波长记录性能较好,它在较低功率和短脉宽的激光束作用下就可得到较高的反射率对比度。