溅射法制备纳米薄膜材料及进展

贾 嘉(中国科学院上海技术物理研究所传感技术国家重点实验室,上海 200083)摘要:溅射技术以其在制备薄膜中的独特优点,成为获得高性能纳米材料的重要手段。本文介绍了离子束溅射和磁控溅射技术的基本原理、方法及其在制备纳米材料中的应用和优点,以国内外这方面的最新进展。文章最后对我国纳米材料今后的应用及发展前景进行了展望。 关键词:溅射法;纳米薄膜;材料制备 中图分类号:O484.1 文献标识码:A 文章编号:1003-353X(2004)07-0070-041 引言 微电子器件发展的小型化趋势引导人们关注纳米科技,由于纳米电子器件的尺度为纳米级,集成度大幅度提高,同时还具有器件结构简单、可靠性强