论文研究Super junction结构4HSiC同质外延生长和肖特基器件制备 .pdf
Superjunction结构4H-SiC同质外延生长和肖特基器件制备，宋庆文，张玉明，基于水平式低压热壁化学气相沉积（ChemicalVaporDeposition-CVD）生长系统，采用Al离子注入后进行二次外延生长的方法，成功的在N型4H-SiC��
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