AlN/Si(111)复合衬底上4HSiC薄膜的阴极荧光特性
AlN/Si(111)复合衬底上4H-SiC薄膜的阴极荧光特性,吴军,韩平,本工作利用化学气相淀积(CVD)方法在AlN/Si(111)复合衬底上成功异质外延生长了4H-SiC薄膜;用X射线衍射(XRD)、拉曼散射(Raman)、阴极�
下载地址
用户评论