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AlN/Si(111)复合衬底上4HSiC薄膜的阴极荧光特性

上传者: 2020-05-10 23:45:56上传 PDF文件 308.65KB 热度 18次
AlN/Si(111)复合衬底上4H-SiC薄膜的阴极荧光特性,吴军,韩平,本工作利用化学气相淀积(CVD)方法在AlN/Si(111)复合衬底上成功异质外延生长了4H-SiC薄膜;用X射线衍射(XRD)、拉曼散射(Raman)、阴极�
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