递进式脉冲激光沉积CN

采用脉冲激光沉积法(PLD)在不同激光通量下烧蚀CNx靶,在单晶硅基底上沉积CNx薄膜。利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱仪(EDS)、X射线光电子谱仪(XPS)等对薄膜的形貌、化学成分和微观结构进行了表征。采用球盘式磨损试验机在大气(相对湿度48%~54%)环境下测试了薄膜的摩擦学特性。结果表明,递进式PLD技术可显著提高CNx薄膜的含氮量。当激光通量从5.0 J/cm2提高至10.0 J/cm2时,薄膜含氮原子数分数由23.8%上升至29.9%,膜中N-sp2C键的含量上升,N-sp3C键和sp3C-C键的含量下降,薄膜的磨损率从2.1×10-15 m3/(N·m)上升至9.0×10