脉冲激光沉积制备TiO

采用脉冲激光沉积(PLD)的方法在玻璃衬底上制备了二氧化钛薄膜,研究了基片温度和氧压对薄膜表面形貌、晶体结构和光学性能的影响。结果表明:当基片温度低于300 °C或高于400 °C时,二氧化钛薄膜的折射率都随着基片温度的升高而增大;基片温度处于300 °C~400 °C之间时,折射率随着基片温度的升高而降低;基片温度为300 °C时,折射率最大。薄膜的折射率随着氧压的增大而减小。X射线衍射仪(XRD)显示薄膜在基片温度低于300 °C时为非晶态结构,在300 °C时出现了锐钛矿结构,当基片温度升高到500 °C时,薄膜仍为锐钛矿结构;300 °C时,薄膜的A(101)衍射峰最强,结晶度最好。通过原子力显微镜(A