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用脉冲激光沉积方法制备氮化铝薄膜

上传者: 2021-02-25 21:16:29上传 PDF文件 114.01KB 热度 11次
介绍了用脉冲激光沉积(PLD)方法制备AlN薄膜的工作,在Si(100)衬底上得到了光滑平整、透明度高的AlN薄膜,由实验结果拟合得到能隙宽度为5.7eV。考察了衬底温度和退火温度的影响。
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