基于光刻工艺的阶跃滤光片式微型分光器件研制

为了消除机械掩模的尺寸限制和阴影效应, 采用基于光刻掩膜的组合刻蚀法来制备阶跃滤光片, 并成功地实现了16×1通道阶跃滤光片式微型分光器件的制备, 该分光器件中滤光片单元的宽度只有90 μm, 总体尺寸不到2 mm。各滤光片通道分布在632.4 nm到739.6 nm之间, 带宽均小于2.9 nm, 透过率均高于70 %. 这样的阶跃滤光片最小单元尺寸可达微米量级, 阴影效应可减小到微米甚至亚微米量级, 与电荷耦合器件(CCD)完全匹配, 可以作为微型分光器件来构建应用于空间等领域的微型光谱系统, 从而促进相应光谱仪器的微型化。