光刻工艺及其工艺要求

课程内容: 1 光刻前的准备工作 1.1 准备要求 1.2 准备方法 1.2.1 光刻前待光刻片子置于干燥塔中 1.2.2 氧化片出炉后可立即送光刻工序涂胶 1.2.3 对氧化片可在涂胶前重吹段时间干氧(氧化温度) 1.2.4 涂胶前片子置于80度烘箱中烘30分钟 2 涂胶 2.1 涂胶的要求 2.2 涂胶的方法 2.2.1 旋转涂胶法 2.2.2 喷涂法 2.2.3 浸涂法 3