原子层沉积法中AlOx薄膜厚度对表面钝化效果的研究 上传者：最爱吃糖小狂魔 2020-07-16 16:30:21上传 PDF文件 900.92KB 热度 18次 原子层沉积法中AlOx薄膜厚度对表面钝化效果的研究，谢洪丽，张炳烨，本文采用原子层沉积法 (ALD) 在p型制绒单晶硅 (c-Si) 表面生长了不同厚度的AlOx 薄膜，通过改变生长周期控制AlOx 薄膜的厚度，并对钝化和� 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 收藏 腾讯 微博 用户评论 发表评论 最爱吃糖小狂魔 资源：406 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
