退火温度对原子层沉积法制备ZnMgO薄膜结构和光学性质的影响 上传者：qinsancai 2020-02-27 12:53:51上传 PDF文件 346.9KB 热度 48次 退火温度对原子层沉积法制备ZnMgO薄膜结构和光学性质的影响，孙冬晓，李金华，采用原子层沉积法（ALD）在石英衬底上制备ZnMgO薄膜，并对制得的样品在空气中进行不同温度的退火处理。利用X射线多晶衍射仪(XRD)、光� 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
