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退火温度对原子层沉积法制备ZnMgO薄膜结构和光学性质的影响

上传者: 2020-02-27 12:53:51上传 PDF文件 346.9KB 热度 25次
退火温度对原子层沉积法制备ZnMgO薄膜结构和光学性质的影响,孙冬晓,李金华,采用原子层沉积法(ALD)在石英衬底上制备ZnMgO薄膜,并对制得的样品在空气中进行不同温度的退火处理。利用X射线多晶衍射仪(XRD)、光�
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