等离子体增强原子层沉积生长N掺杂Cu2O 薄膜及其物性研究 上传者：friend_do 2020-07-21 03:12:13上传 PDF文件 730.02KB 热度 17次 等离子体增强原子层沉积生长N掺杂Cu2O 薄膜及其物性研究，李微，潘景薪，本文采用等离子体增强原子层沉积技术（PEALD）以NH3为掺杂源对Cu2O薄膜材料进行了N掺杂实验，并对N掺杂后的样品进行了X射线光电子能谱 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 收藏 腾讯 微博 用户评论 发表评论 friend_do 资源：458 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
