论文研究原子层沉积生长Al2O3薄膜表面钝化机理的研究 .pdf 上传者：Xieminsen 2020-04-20 00:56:57上传 PDF文件 601.5KB 热度 28次 原子层沉积生长Al2O3薄膜表面钝化机理的研究，孙平杨，张炳烨，本文采用原子层沉积(ALD)方法在不同导电类型的制绒单晶硅(c-Si)表面生长一层23nm厚的Al2O3薄膜。Al2O3薄膜结构利用场发射扫描显微镜(FESEM) 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论 Xieminsen 资源：19548 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
