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Mo离子注入和离子渗硫对TiN涂层微观结构和表面性能的影响

上传者: 2020-05-27 09:16:30上传 PDF文件 688.11KB 热度 25次
Mo离子注入和离子渗硫对TiN涂层微观结构和表面性能的影响,王成彪,田斌,在物理气相沉积的TiN涂层表面进行剂量为1E18离子/cm2的Mo离子注入,接着采用低温离子渗流技术对Mo离子注入改性后的TiN涂层进行表面后处
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