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Ti离子注入和退火对ZnS薄膜结构和光学性质的影响

上传者: 2020-04-21 12:14:05上传 PDF文件 522.93KB 热度 35次
Ti离子注入和退火对ZnS薄膜结构和光学性质的影响,苏海桥,薛书文,利用真空蒸发法在石英玻璃衬底上制备了ZnS薄膜,将能量80keV,剂量1×1017ions/cm2的Ti离子注入到薄膜中,并将注入后的ZnS薄膜进行退火处�
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