硅烷流量对电弧离子镀TiSiN 涂层结构和性能的影响

Name: 硅烷流量对电弧离子镀TiSiN 涂层结构和性能的影响
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Author: kun_ni

上传者：kun_ni 2020-05-12 05:47:09上传 PDF文件 995.93KB 热度 54次

硅烷流量对电弧离子镀TiSiN涂层结构和性能的影响，杨兵，田灿鑫，在硅烷气氛中采用电弧离子镀技术制备TiSiN复合涂层。系统研究了硅烷流量对涂层结构和性能的影响。采用透射电子显微镜分析涂层结构�

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