射频磁控溅射司太立合金淀积薄膜的主要元素成份测量(1993年) 上传者：wuruoyin 2024-07-08 23:47:57上传 PDF文件 131.61KB 热度 50次 采用组份均匀薄膜近似，对射频磁控溅射的司太立沉积薄膜进行了背散射测量，结果发现薄膜中钨的含量与司太立靶材相一致，表明采用该工艺直接由司太立靶材制备司太立薄膜是可行的。 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
