用准分子激光曝光获得0.35 μm刻线宽度 上传者：dqq_ 2021-04-26 04:29:37上传 PDF文件 1.18MB 热度 16次 东芝公司用准分子激光器和石英透镜的十分之一缩小光学系统,制成电路线宽为0.35 μm、大小为5 mm见方的图案。估计用这一技术并改进原有的曝光技术,对如工64 M DRAM (动态存储器)(电路线宽20.5 μm)。 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 收藏 腾讯 微博 用户评论 发表评论 dqq_ 资源：431 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
