用准分子激光曝光获得0.35 μm刻线宽度 上传者：dqq_ 2021-04-26 04:29:37上传 PDF文件 1.18MB 热度 45次 东芝公司用准分子激光器和石英透镜的十分之一缩小光学系统,制成电路线宽为0.35 μm、大小为5 mm见方的图案。估计用这一技术并改进原有的曝光技术,对如工64 M DRAM (动态存储器)(电路线宽20.5 μm)。 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
