用准分子激光使自显影光刻胶曝光
半导体工程师寻找有用的自显影光刻胶已有多年。这种光刻胶可用于半导体加工过程中很少几个阶段,可能节约生产成本。虽然已研究过几种这类材料,但它们都有一种或多种问题,诸如副产品有毒、曝光需要高强度辐照量、化学不稳定性等。
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