在Si(111)上生长的AlN膜的特性

Name: 在Si(111)上生长的AlN膜的特性
Rating: 4.5 (32 reviews)
Author: ZHAOSHOUHAI

上传者：ZHAOSHOUHAI 2021-04-20 10:44:29上传 PDF文件 3.25MB 热度 32次

在Si(111)上生长的AlN膜的特性

下载地址

用户评论

更多下载

下载地址

立即下载

用户评论

在Si111上生长的AlN膜的特性

在Si(111)上生长的AlN膜的特性

大小：3.25MB | 2021-04-20 10:44:29
ZnO AlN Si111薄膜的外延生长和性能研究

用常压金属化学气相沉积法(MOCVD)在Si(111)衬底上制备了马赛克结构ZnO单晶薄膜。引入低温...

大小：852KB | 2021-04-17 18:48:55
AlN Si111复合衬底上4HSiC薄膜的阴极荧光特性

AlN/Si(111)复合衬底上4H-SiC薄膜的阴极荧光特性，吴军，韩平，本工作利用化学气相淀积（...

大小：0B | 2020-05-10 23:45:56
通过采用低温和高温交替技术的多层结构在蓝宝石上外延生长AlN膜

通过采用低温和高温交替技术的多层结构在蓝宝石上外延生长AlN膜

大小：3.18MB | 2021-04-20 10:44:24
AlN Si111复合衬底上4H SiC薄膜的异质外延

利用化学气相淀积(CVD)的方法在AlN/Si(111)复合衬底上成功实现了4H-SiC薄膜的异质外...

大小：1.09MB | 2021-04-04 15:57:55
在ZnO Si衬底上ZnCdSe ZnSe多量子阱的生长与光学特性

在经NH3等离子体氮化的Si(100)衬底上,用等离子体增强化学气相淀积(PECVD)的方法生长了Z...

大小：163KB | 2021-02-27 00:40:03
Adsorption properties of AlN on Si111surface A density functional study

Adsorption properties of AlN on Si(111) surface: A...

大小：1024KB | 2021-02-08 23:03:28
预辅Al及AlN缓冲层厚度对GaN Si111材料特性的影响

主要研究了采用高温AlN缓冲层外延生长GaN/Si(111)材料的工艺技术。利用高分辨X射线双晶衍射...

大小：1.92MB | 2021-02-08 23:03:23
在聚合物基板上具有AlN膜的柔性表面声波装置

在聚合物基板上具有AlN膜的柔性表面声波装置

大小：1.38MB | 2021-04-21 19:35:40
AlN成核层的生长温度对高温MOCVD法生长AlN模板的影响

AlN成核层的生长温度对高温MOCVD法生长AlN模板的影响

大小：1.5MB | 2021-04-21 19:35:30
使用中温高温双层AlN缓冲液提高Si111衬底上GaN的质量

通过金属有机化学气相沉积,为在Si(1 1 1)上生长的GaN引入了中温/高温(MT / HT)双层...

大小：640KB | 2021-04-16 22:52:08
氮掺杂金刚石膜的生长特性

采用电子辅助化学气相沉积法(EA-CVD),在含氮气氛中制备出金刚石膜,利用SEM、Raman光谱、...

大小：1.49MB | 2021-04-04 07:38:00
气流混合对生长GaN Si膜性能影响的研究

用金属有机化学气相沉积技术在三种不同型号的反应管中生长了GaN:Si膜.通过对样品的光电及结晶性能的...

大小：184KB | 2021-02-22 07:00:03
双缓冲层结构对蓝宝石上AlN外延生长的影响

提出了包括隔离层和成核层的双重AlN缓冲层结构,以通过金属有机化学气相沉积来改善蓝宝石衬底上的AlN...

大小：962KB | 2021-04-20 10:44:19
AlN单晶生长行为研究

本文采用物理气相传输法对不同衬底温度和温差下制备的氮化铝(AlN)晶体形貌进行研究,研究结果表明Al...

大小：3.81MB | 2021-05-04 22:37:37
抑制在Si上生长的AlGaN基近紫外LED中意外掺入碳

抑制在Si上生长的AlGaN基近紫外LED中意外掺入碳

大小：2.36MB | 2021-04-18 09:14:31