激光刻蚀实现硅的近红外响应

Name: 激光刻蚀实现硅的近红外响应
Rating: 4.5 (36 reviews)
Author: yemiancheng

上传者：yemiancheng 2021-03-07 00:21:35上传 PDF文件 929.06KB 热度 36次

激光刻蚀实现硅的近红外响应

下载地址

用户评论

更多下载

下载地址

立即下载

用户评论

激光刻蚀实现硅的近红外响应

激光刻蚀实现硅的近红外响应

大小：929KB | 2021-03-07 00:21:35
熔石英的快速激光刻蚀

使用10.6μm连续波CO_2激光和几种工作气体,对熔石英实现了快速的激光刻蚀.得到了刻蚀速度高于2...

大小：4.42MB | 2021-02-21 03:00:47
飞秒与纳秒激光刻蚀单晶硅对比研究

采用输出功率8 W的355 nm NdYVO4纳秒激光器和3 W的1030 nm飞秒激光器对0.4 ...

大小：3.08MB | 2021-02-07 22:36:10
飞秒激光刻蚀增强非晶硅薄膜太阳电池性能的研究

飞秒激光刻蚀增强非晶硅薄膜太阳电池性能的研究

大小：2.27MB | 2021-04-06 21:04:11
激光刻蚀硅磁敏三极管发射区引线槽的研究

提出了一种激光与微电子机械加工系统(MEMS)相结合刻蚀硅磁敏三极管发射区引线槽的方法。实验结果表明...

大小：285KB | 2021-02-23 15:02:51
石英陶瓷激光刻蚀加工技术研究

尝试了利用激光进行石英陶瓷刻蚀加工的方法,采用紫外激光器和光纤激光器进行了刻蚀加工实验。加工样品的测...

大小：3.37MB | 2021-02-08 11:09:26
紫外激光刻蚀多层线路板初步研究

描述了固体倍频紫外激光在355 nm和266 nm,不同聚焦透镜实验条件下,对多层电路板的微刻蚀实验...

大小：641KB | 2021-04-22 21:37:43
在蓝宝石上激光刻蚀亚微米结构

在蓝宝石上激光刻蚀亚微米结构

大小：474KB | 2021-03-07 00:21:22
半导体光刻蚀工艺

半导体光刻蚀工艺

大小：48.94MB | 2021-02-19 20:31:05
光刻与刻蚀工艺.ppt

“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆（或者叫硅片）上盖上事先做好的光刻板，然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行...

大小：10.1MB | 2020-07-17 20:17:47
基于高斯脉冲的激光刻蚀CVD金刚石研究

构建了高斯脉冲激光线刻蚀能量密度分布模型,研究了激光功率和脉冲数对化学气相沉积(Chemical V...

大小：7.89MB | 2021-03-29 08:31:30
准分子激光直接刻蚀单晶硅研究

介绍了准分子激光刻蚀单晶硅的流程和表征，很有用的

大小：172KB | 2020-07-17 20:31:32
蓝宝石选择性激光刻蚀技术的研究进展

蓝宝石选择性激光刻蚀技术的研究进展，宋学辉，曲正坤，蓝宝石是红外光学、衬底材料、高温高压环境光学元...

大小：603KB | 2020-07-17 20:31:32
用氮分子激光泵浦的近红外染料激光

用氮分子激光器作泵浦光源,对6种新合成的四甲川苯乙烯菁染料溶液,获得675~787nm波段连续可调染...

大小：1.23MB | 2021-02-18 00:40:44
UV压印光刻刻蚀工艺研究

UV压印光刻刻蚀工艺研究，史永胜，丁玉成，针对UV压印光刻和传统光学光刻不同的技术特点，提出压印光刻...

大小：0B | 2020-06-12 14:39:34
光刻中刻蚀工艺特点.doc

光刻中刻蚀工艺特点.doc

大小：18KB | 2021-02-18 14:43:13