元器件应用中的磷硅酸玻璃光波导
为了充分利用标准CMOS工艺兼容中的各层作为硅基光波导,这里再介绍一种利用CMOS工艺中的磷硅酸玻璃作为 光波导的例子。利用CMOS工艺中的磷硅酸玻璃层作为光波导芯层,磷硅酸玻璃层下面的氧化层作为光波导下包层 ,PSG层上面的金属层作为上包层。如图1所示利用有源区与阱间的pn结作为发光二极管,磷硅酸玻璃覆盖在pn结上。发光二极管发出的光直接耦 合进入磷硅酸玻璃光波导,实现发光二极管与光波导的集成,利用有源区与阱间的pn结作为光探测器,磷硅酸玻 璃覆盖在pn结上。光波导将光直接耦合到光探测器,实现光探测器与光波导的集成。 图1 磷硅酸玻璃光波导示意图 为了限制光波的横向扩散,在磷硅酸
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