化学机械抛光中晶圆/抛光垫表面接触分析 上传者：zhangxingh18040 2020-07-17 19:46:23上传 PDF文件 853.4KB 热度 15次 化学机械抛光中晶圆/抛光垫表面接触分析，杜诗文，蒋名国，基于接触力学和流体动力学理论分析了抛光过程中的摩擦学行为，建立了简化的化学机械抛光过程中的有限元模型。通过工艺参数、材料 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论 zhangxingh18040 资源：433 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
