论文研究 一种有效去除化学机械抛光后残留有机物的新方法 .pdf 上传者：wsrwsrriri 2020-07-17 21:56:43上传 PDF文件 244.4KB 热度 14次 一种有效去除化学机械抛光后残留有机物的新方法，武彩霞，刘玉岭，本文提出了硅片化学机械抛光后表面残留的有机物污染，介绍了金刚石膜电化学合成过氧化物的方法，原理。根据有机物易被氧化分解的 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论 wsrwsrriri 资源：19545 粉丝：2 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
