Effects of the AlN layer thickness of composition graded AlxGa1 xN/AlN buffer la 上传者：u40799 2020-07-17 00:39:50上传 PDF文件 552.97KB 热度 17次 AlxGa1-xN/AlN 缓冲层结构中AlN层厚度对在Si衬底上生长GaN外延薄膜的性质影响研究，戴江南，方妍妍，在本论文中，利用金属有机化学气相沉积方法对高温AlN缓冲层在硅衬底上进行GaN薄膜材料的性质影响进行了研究。重点研究不同高温AlN缓 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论 u40799 资源：468 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
