磁控溅射启辉电压波动和机理 上传者：zxx94666 2020-07-16 10:33:35上传 PDF文件 339.08KB 热度 43次 磁控溅射启辉电压波动和机理，牟宗信，邓新绿，磁控溅射沉积技术被广泛应用于沉积各种功能薄膜。深入研究其放电特性对控制沉积过程有重要意义。在磁控靶表面，和电场正交的磁场 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
