论文研究 采用ICPCVD工艺生长氮化硅对InP表面钝化的研究 .pdf 上传者：aishangjiajiaolaoshi 2020-07-16 09:25:23上传 PDF文件 300KB 热度 14次 采用ICPCVD工艺生长氮化硅对InP表面钝化的研究 ，陈俊，王一栋，低温工艺下生长的氮化硅对InP器件具有较好的钝化效果。为了研究InP表面的钝化效果，本文采用ICPCVD的方法在InP衬底上生长氮化硅钝化层 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 收藏 腾讯 微博 用户评论 发表评论 aishangjiajiaolaoshi 资源：19607 粉丝：2 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
