基片温度对PLD方法制备的ZnO薄膜结构和性能的影响 上传者：dss36619 2020-06-08 07:47:58上传 PDF文件 353.24KB 热度 57次 基片温度对PLD方法制备的ZnO薄膜结构和性能的影响，陈亚，李小丽，采用脉冲激光沉积(PLD)方法在玻璃基片上沉积了ZnO半导体薄膜，详细研究了基片温度对ZnO薄膜的沉积速率，结晶取向，透过率、带隙、载� 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论
