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论文研究Thermal annealing effect on sputtered tungsten oxide thin films.pdf

上传者: 2019-09-22 23:21:58上传 PDF文件 446.97KB 热度 34次
热退火对溅射沉积钨氧化物薄膜的影响,秦玉香,沈万江,利用反应磁控溅射法在氧化铝基底上沉积氧化钨薄膜并分别与200、300、400和600oC空气气氛退火4h。研究了热退火对氧化钨薄膜微结构和气��
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