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论文研究 PECVD薄膜颗粒缺陷研究和改善 .pdf

上传者: 2019-09-09 10:35:48上传 PDF文件 464.28KB 热度 41次
PECVD薄膜颗粒缺陷研究和改善,王铁渠,黄其煜,在半导体集成电路制造PECVD工艺中,经常会遇到薄膜颗粒缺陷问题。本论文总结了PECVD中薄膜颗粒的类型和形成原因以及改善方法。PECVD��
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