不同织构CVD金刚石膜的Hall效应特性 上传者：d_pcb91226 2021-04-24 21:18:28上传 PDF文件 383.75KB 热度 11次 采用热丝化学气相沉积法在p型硅衬底上制备了不同织构的多晶金刚石膜,使用XRD表征了CVD金刚石膜的结构特征,研究了退火后不同织构金刚石膜的电流特性,使用Hall效应检测仪研究了金刚石膜的霍尔效应特性及随温度变化的规律,结果表明所制备的金刚石膜是p型材料,载流子浓度随着温度的降低而增加,迁移率随着温度的降低而减小.室温下[100]织构金刚石薄膜的载流子浓度和迁移率分别为4.3×104cm3和76.5cm2/V·s. 下载地址 用户评论 更多下载 下载地址 立即下载 用户评论 发表评论 d_pcb91226 资源：434 粉丝：0 +关注 上传资源 免责说明 本站只是提供一个交换下载平台，下载的内容为本站的会员网络搜集上传分享交流使用,有完整的也有可能只有一分部,相关内容的使用请自行研究,主要是提供下载学习交流使用,一般不免费提供其它各种相关服务! 本站内容泄及的知识面非常广,请自行学习掌握,尽量自已动脑动手解决问题,实践是提高本领的途径,下载内容不代表本站的观点或立场!如本站不慎侵犯你的权益请联系我们,我们将马上处理撤下所有相关内容！联系邮箱：server@dude6.com
